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高亮度激光二极管堆栈:技术设计指南

在当代光子学领域,从传统气体和固体激光器向直接二极管系统的过渡不仅仅是一种趋势,而是能源效率和系统模块化的根本性转变。这一演变的核心在于 半导体激光芯片, 这是一个微观奇迹,是产生光子的主要引擎。然而,从单发射极芯片到高功率工业工具的过程涉及复杂的热力学和光学工程。要了解这些因素之间的相互作用 多发射极激光二极管 配置和结构完整性 激光二极管堆栈 对于旨在最大限度降低总拥有成本 (TCO) 同时最大限度提高 高亮度激光二极管 业绩.

微观基础:半导体激光芯片

任何高功率激光系统的性能都不可避免地受到其外延生长质量的限制。A 半导体激光芯片 量子阱(QW)通常是由 III-V 族化合物半导体(如砷化镓或磷化铟)组成的多层结构。这些芯片的效率(通常以插墙效率(WPE)来衡量)取决于量子阱(QW)层的精度。.

量子阱工程与载流子禁锢

基本物理学原理涉及将电子和空穴注入一个狭窄的有源区。为了实现高亮度,芯片必须保持较高的载流子密度,而不发生非辐射重组。现代大功率芯片利用应变量子阱来改变带状结构,减少空穴的有效质量,降低透明电流密度。这一工程细节将标准芯片与高亮度变体区分开来;后者可以在达到热泄漏导致的翻转点之前维持更高的电流密度。.

减轻灾难性光学损伤 (COD)

COD 是大功率二极管的主要失效模式之一。在芯片的输出面,强烈的光场会导致局部发热,从而缩小带隙、增加吸收并导致热失控失效。先进的制造工艺包括刻面钝化和制造非吸收镜(NAM)。对于制造商来说,在芯片级投资钝化工艺是确保最终产品寿命的最有效方法。 激光二极管 一叠.

扩展功率:多发射极激光二极管结构

单个发射器只能产生有限的功率(高可靠性工业芯片通常为 10W 至 20W),然后热密度就会变得难以控制。为了达到千瓦级的功率,工程师们采用了一个 多发射极激光二极管 战略。.

空间功率组合

在多发射极条形激光器中,多个激光二极管安装在一块基板上,共用一个散热器。这里的挑战是 “串扰”--包括热串扰和电串扰。如果发射器靠得太近,其中一个发射器的热量就会影响相邻发射器的波长和效率。如果相隔太远,亮度(单位面积单位固角的功率)就会降低。.

光束参数积 (BPP) 和亮度

亮度的定义是

$B = \frac{P}{A \cdot \Omega}$

其中,$P$ 是功率,$A$ 是发射面积,$\Omega$ 是实体发散角。在多发射器设置中,发射器之间的 “死角 ”会增加 $A$,而不会增加 $P$,这就从本质上降低了亮度。因此,高亮度激光二极管设计的工程目标是尽量减小发射器间距,同时利用精密的微光学技术重新调整光束。.

结构整合:激光二极管堆栈

当所需功率超过单根棒材所能提供的功率时,可将棒材垂直或水平堆叠起来,形成一个 激光二极管堆栈. .这正是从半导体物理学过渡到机械和热能工程学的关键所在。.

热管理:堆栈的生命线

一个典型的 1 千瓦激光堆可能会同时产生 1 千瓦的废热。管理这些热量是激光堆设计中最大的挑战。主要有两种冷却方式:

  1. 微通道冷却器 (MCC): 水流通过激光棒正下方的微型通道。这种方式热阻最低,但需要高纯度的去离子水,以防止侵蚀和堵塞。.
  2. 宏通道冷却器 更大的水道更坚固耐用,可使用标准冷却水,但热阻更高,因此需要更高效的冷却系统 半导体激光器 芯片 绩效来补偿。.

焊接技术:硬焊与软焊

激光棒和散热器之间的接口通常用焊料连接。.

  • 铟(软焊): 可提供出色的应力释放效果,但在脉冲条件下容易出现 “铟迁移 ”和热疲劳。.
  • 金锡(硬焊): 它具有卓越的稳定性,可防止 “微笑 ”效应(横梁轻微弯曲,影响横梁质量),但需要与热膨胀系数(CTE)相匹配的底座,如钨铜底座(WCu)。.

高亮度光学重新格式化

要转换 激光二极管堆栈 要将二极管发散的光束转化为有用的、光纤耦合的或聚焦的光束,必须使用辅助光学器件。由于二极管的发散高度不对称(快轴与慢轴),因此精度至关重要。.

快轴准直 (FAC)

快轴的发散度通常为 30-40 度。非球面微透镜必须以亚微米精度对准发射器面。即使是 1 微米的偏差,也会影响到发射器面。 多发射极激光二极管 这可能会导致最终焦点的亮度大大降低。.

光束成型和转换

在高端工业应用中,“阶跃镜 ”或 “内反射 ”光束整形器用于从棒状光束中 “切割 ”宽而细的光束,并垂直堆叠光束段。这一过程可均衡两个轴向的 BPP,从而将光线有效地耦合到小直径光纤中。.

经济分析:组件完整性与系统维护

系统集成商的一个常见误区是只关注系统的 “每瓦特成本”。 激光二极管堆栈 而不是运行系统的 “每小时美元”。.

如果一个 半导体激光芯片 如果 WPE 高出 1%,冷却系统的热负荷就会显著下降。这种连锁效应缩小了所需冷却器的尺寸,降低了耗电量,最重要的是延长了平均故障间隔时间(MTBF)。通过选择硬焊(AuSn)结构和钝化面的堆栈,制造商可能会面临 15% 的初始成本增加,但在五年的生命周期内,现场服务干预可减少 50% 。.


案例研究:医疗美容平台的热优化

1.客户背景

一家领先的医用激光系统制造商(专门从事脱毛和非侵入性溶脂)的手持式激光器出现了很高的故障率。这些设备经常部署在环境温度较高(35°C 以上)的地区,内部冷却系统已达到极限。.

2.技术挑战

现有的 808nm 激光二极管堆栈 由于铟焊料的热疲劳,激光手机出现故障。这种 “微笑 ”效应导致激光照射到手机的内部外壳上,从而导致塑料部件过热,并导致向患者提供的能量不一致。.

  • 所需功率: 峰值功率 1200 瓦。.
  • 脉冲宽度: 10ms 至 400ms。.
  • 工作周期: 最高 25%。.

3.技术参数设置与解决方案

我们使用 多发射极激光二极管 配置基于 AuSn 硬焊接技术。.

参数以前的规格优化规格(建议)
芯片技术标准砷化镓大功率 NAM 钝化芯片
焊接材料铟(软)硒化金(硬质)
冷却方式被动散热器微通道冷却 (MCC)
发射器间距500 μm400 微米(高密度)
“微笑 ”宽容< 2.0 μm< 0.5 μm
WPE(壁插式效率)48%59%

4.质量控制(QC)规程

  • 自动光学检测 (AOI): 每一个 半导体激光芯片 对切割后的切面缺陷进行扫描。.
  • 压力-温度循环: 叠层从 10°C 到 60°C 经过 500 次循环,以确保 AuSn 键的完整性。.
  • 长期磨合: 以最大电流连续脉冲 100 小时,以识别早期故障(婴儿死亡率)。.

5.结论

通过改用高亮度硬焊堆,客户将手持设备的年故障率从 4.2% 降至 0.3%。增加的 WPE 使内部风扇更小,手机重量减轻了 150 克,这对临床医生来说是一个重要的卖点。.


技术数据性能表:叠层二极管系列

下表概述了各种配置的性能指标,这些指标基于 高亮度激光二极管 标准。.

型号系列排放总量峰值功率(瓦)波长(纳米)工作电流 (A)光谱宽度(全宽半高)
LD-S-808-标准10 条/19 个发射器1000808 ± 3100< 4 纳米
LD-S-940-工业级12 条/24 个发射器1500940 ± 5140< 5 纳米
LD-S-1064-Medical6 条/19 个发射器6001064 ± 380< 4 纳米
LD-HB-高亮度多发射器模块200 (纤维)976 ± 120< 1 nm(VBG)

注:所有数据均在 25°C 冷却水温度下测量。.


常见问题

1.激光二极管堆栈中波长漂移的主要原因是什么?

波长漂移主要是由电路板结温的变化引起的。 半导体激光芯片. .对于砷化镓基二极管,漂移通常为每摄氏度 0.3 纳米。有效的热管理通过 激光二极管堆栈‘冷却系统是稳定输出波长的唯一方法。.

2.多发射极激光二极管中的一个发射极出现故障时能否修复?

在标准条形图中 多发射极激光二极管, 由于单个发射器是整体半导体结构的一部分,因此无法修复。不过,如果故障发生在外部微光学器件上,有时可以对其进行重新校准。对于高可靠性的应用,更换条形或堆栈的成本效益更高。.

3.为什么在光纤耦合中 “亮度 ”比 “总功率 ”更重要?

亮度决定了在一定直径和数值孔径(NA)的光纤中可以挤入多少功率。功率大而亮度低会导致大光束无法进入光纤,从而浪费能量并可能损坏光纤包层。.

4.AuSn 焊料如何改善 “微笑 ”效果?

AuSn 是一种硬焊料,不会随着时间的推移而蠕变。当与 CTE 匹配的散热片结合使用时,它可以锁定 半导体激光芯片 完全平整的方向。这确保了 FAC 镜头能将所有发射器聚焦到一个统一的平面上。.

5.激光二极管堆栈老化有哪些迹象?

主要指标是阈值电流的增加和斜率效率(毫瓦/毫安)的降低。如果您发现系统需要更大的电流才能实现相同的光输出,那么芯片很可能正在经历热退化或刻面氧化。.

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