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Alta calidad, alto rendimiento, excelente servicio.
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Alta calidad, alto rendimiento, excelente servicio.
El desarrollo de la semiconductor de alta potencia El láser ha pasado de la simple generación de luz a la gestión de densidades de energía extremas. Para comprender un diodo láser de alta potencia, En el caso de los semiconductores III-V, hay que mirar más allá del encapsulado a macroescala y adentrarse en el crecimiento epitaxial del cristal semiconductor. El funcionamiento a alta potencia está limitado fundamentalmente por la eficiencia interna del dispositivo, definida principalmente por la eficiencia de inyección ($\eta_i$) y el coeficiente de pérdida interna ($\alpha_i$). A medida que aumenta la densidad de corriente, el diodo láser se enfrenta a la “fuga de portadores”, en la que los electrones escapan de los pozos cuánticos activos hacia las capas de revestimiento, lo que reduce significativamente la eficiencia de la pendiente y aumenta el calor residual.
Avanzado láseres de diodo de alta potencia mitigarlo mediante regiones activas “sin Al” y heteroestructuras de confinamiento separado de índice graduado (GRINSCH). Al sustituir el arseniuro de aluminio y galio (AlGaAs) por el fosfuro de indio y galio (InGaP) en el revestimiento, los fabricantes pueden conseguir menores velocidades de recombinación superficial y una mayor conductividad térmica. Este cambio de material repercute directamente en Eficiencia del enchufe de pared (WPE), que es la relación entre la potencia óptica de salida y la potencia eléctrica de entrada. Para un alto rendimiento diodo láser de alta potencia alcanzar un WPE de 60% o superior es la referencia para la fiabilidad industrial, ya que cada punto porcentual de ineficacia se traduce en fonones (calor) que hay que gestionar.
Cuando se utiliza un diodo láser de alta potencia en el nivel de varios vatios, la temperatura de unión ($T_j$) se convierte en el principal factor de deriva espectral y fallo catastrófico. La trayectoria térmica desde la unión del semiconductor hasta el disipador de calor externo es una cadena de interfaces, la más crítica de las cuales es la soldadura de “unión a la matriz”. Tradicionalmente, diodo láser de baja potencia unidades utilizaron soldadura de indio (In) porque su ductilidad puede absorber la tensión mecánica causada por los diferentes coeficientes de expansión térmica (CET) entre el chip de arseniuro de galio (GaAs) y el disipador térmico de cobre.
Sin embargo, en láseres de diodo de alta potencia, El indio es susceptible a la “fluencia térmica” y al “vaciado”. Durante miles de horas de funcionamiento, la alta densidad de corriente y los ciclos térmicos hacen que los átomos de indio migren, lo que puede provocar “defectos de línea oscura (DLD)” o incluso cortocircuitos en las facetas. Para garantizar una longevidad de nivel industrial, se requiere un producto de primera calidad. semiconductor de alta potencia utiliza “soldadura dura” de Oro-Estaño (AuSn). El AuSn proporciona una unión rígida, de alto punto de fusión y resistente a la fluencia. El inconveniente para el ingeniero es que el AuSn requiere un subensamblaje de CET, como el nitruro de aluminio (AlN) o el cobre tungsteno (CuW), para evitar que el chip se agriete durante la fase de enfriamiento del proceso de soldadura. Esta elección de material aumenta considerablemente el precio del diodo láser pero es un requisito previo para cualquier sistema que requiera un tiempo medio hasta el fallo (MTTF) de más de 20.000 horas.
Para aplicaciones de alta potencia, la potencia bruta es a menudo secundaria a la “Luminosidad”. La luminosidad $B$ se define como la potencia $P$ por unidad de superficie $A$ por unidad de ángulo sólido $\Omega$:
$$B = \frac{P}{A \cdot \Omega}$$
A semiconductor de alta potencia barra láser consta de múltiples emisores. Aunque la potencia total puede ser de cientos de vatios, el Producto del parámetro del haz (BPP)-que es el producto de la cintura del haz y el ángulo de divergencia- es mucho mayor (peor) en el eje lento que en el rápido. Esta asimetría es el principal reto en el acoplamiento de fibras a diodo láser de alta potencia módulo.
Para salvar esta distancia, se utilizan microópticos como los colimadores de eje rápido (FAC) y los colimadores de eje lento (SAC) para circularizar el haz. Sin embargo, el límite definitivo para las aplicaciones directas de diodos es la “combinación de haces de longitud de onda” (WBC). Utilizando una rejilla de difracción para superponer los haces de múltiples láseres de diodo de alta potencia con longitudes de onda ligeramente diferentes, un sistema puede alcanzar una salida casi limitada por difracción con kilovatios de potencia. Esta es la tecnología que sustituye actualmente a los láseres de CO2 y fibra en el procesamiento de metales de gama alta, ofreciendo una WPE a nivel de sistema que casi duplica la de las fuentes láser tradicionales.
La integridad de un diodo láser se ve comprometida por dos mecanismos principales de fallo interno: El Daño Óptico Catastrófico (COD) y la propagación de Defectos de Línea Oscura (DLD). El COD se produce en la faceta de salida, donde la densidad de potencia óptica alcanza un umbral crítico ($MW/cm^2$). El intenso campo provoca una absorción localizada que funde la faceta semiconductora en nanosegundos. Para evitarlo, los profesionales semiconductor de alta potencia emplean la “pasivación de facetas” en entornos de vacío ultraalto. Al depositar una capa dieléctrica no absorbente inmediatamente después de la hendidura, se eleva el umbral de COD, lo que permite la diodo láser de alta potencia a corrientes mucho más altas.
Las DLD, por su parte, son “bombas de relojería” dentro de la red cristalina. Se trata de dislocaciones que crecen bajo la influencia de la recombinación de portadores y el estrés térmico. Un único “punto oscuro” o “línea oscura” absorberá luz, generará calor y desencadenará el crecimiento de nuevas dislocaciones hasta que toda la región activa deje de funcionar. Para un láseres de diodo de alta potencia la única solución es un riguroso control de calidad epitaxial y un proceso de “quemado”. Mediante el funcionamiento de los diodos a temperaturas y corrientes elevadas durante 48-168 horas, se eliminan las unidades de “mortalidad infantil” con DLD latentes antes de que lleguen al cliente.
La tabla siguiente ilustra los parámetros técnicos críticos de los emisores basados en GaAs en la longitud de onda de 9xx nm, utilizada habitualmente para el bombeo y el procesamiento directo de materiales.
| Parámetro | Emisor único (área amplia) | Barra láser (Factor de llenado 20%) | Módulo de fibra óptica |
| Longitud de onda central (nm) | 915 / 940 / 976 | 976 / 980 | 915 – 976 |
| Potencia de salida (W) | 10 – 30 | 80 – 150 | 200 – 500+ |
| Corriente de umbral (A) | 0.5 – 1.2 | 12 – 20 | 1.0 – 1.5 |
| Eficacia de la pendiente (W/A) | 1.1 – 1.3 | 1.0 – 1.2 | 5 - 15 (Sistema) |
| Tensión directa (V) | 1.7 – 2.0 | 1.8 – 2.2 | 20 - 40 (Serie) |
| Divergencia del eje lento (95%) | 8° - 11° | 9° - 12° | N/A (Fibra NA) |
| Anchura espectral (FWHM, nm) | 3 – 6 | 4 – 7 | 4 – 6 |
| Vida útil típica (MTTF, horas) | > 100,000 | > 20,000 | > 30,000 |
Antecedentes del cliente:
Un fabricante de componentes para vehículos eléctricos (VE) de primer nivel de China necesitaba una solución de soldadura de alta velocidad para bandejas de baterías de aluminio 6061. Los láseres de fibra tradicionales sufrían de baja absorción en aluminio y altas tasas de “salpicaduras”, lo que conducía a uniones estructurales débiles.
Retos técnicos:
El aluminio tiene una tasa de absorción relativamente baja para la luz de 1064 nm. Además, la alta densidad de potencia de un láser de fibra suele “perforar” el material demasiado profundamente, provocando porosidad. El cliente necesitaba un sistema de diodo láser de alta potencia con un perfil de haz específico para crear un baño de fusión estable. El reto consistía en mantener 4 kW de potencia de onda continua (CW) con una alta eficiencia de conexión a la pared (WPE) para reducir los gastos operativos.
Parámetros técnicos y ajustes:
Solución de control de calidad (CC):
Las pilas de diodos láser de alta potencia se fabricaron utilizando soldadura dura de AuSn sobre soportes de AlN para garantizar una “deriva de apunte” nula durante el proceso de soldadura a alta velocidad. Cada pila se sometió a un rodaje de 120 horas a 45 °C de temperatura. Implementamos un “monitor de reflexión” en tiempo real para apagar el sistema si la luz se reflejaba desde la superficie de aluminio hacia la cavidad del láser, una causa común de fallo en los sistemas semiconductores de alta potencia.
Conclusión:
El sistema de láser de diodo de alta potencia directa alcanzó una velocidad de soldadura 25% más rápida que la configuración anterior de láser de fibra. Debido a la ligera mejor absorción de la longitud de onda de 976 nm en el aluminio y al perfil más uniforme del haz Top-Hat, la “porosidad” de las soldaduras se redujo en 60%. El sistema funcionó con un WPE de 45%, ahorrando al cliente aproximadamente $12.000 al año en electricidad por estación. Este caso demuestra que, para el procesado de metales no férreos, el alto brillo y la estabilidad de un módulo de alta potencia de diodo láser son superiores a las fuentes tradicionales.
Al buscar un Fábrica china de diodos láser o un semiconductor de alta potencia socio, el factor diferenciador es la “Fidelidad de los datos”. Un fabricante fiable no se limita a proporcionar una hoja de datos; proporciona un gráfico LIV (Luz-Corriente-Voltaje) y un informe espectral para cada uno de los módulos enviados.
Para el comprador OEM, el objetivo es eliminar la “Varianza Binning”. Si su sistema está diseñado para una bomba de 976 nm, un diodo que se desvíe a 980 nm debido a una ingeniería térmica deficiente provocará una pérdida de 30% en la eficacia de bombeo. Por lo tanto, es esencial verificar las especificaciones de “Impedancia térmica” y los límites de corriente “sin retorcimiento”. La fiabilidad no es un término de marketing; es un resultado medible de la pureza epitaxial y de la ingeniería termomecánica.
P: ¿Qué importancia tiene el “pliegue” en la curva L-I de un diodo láser de alta potencia?
R: Un “Kink” representa un cambio repentino en el modo espacial o un salto de modo en el espectro. Esto suele indicar que el índice de guía lateral de la cresta ya no es suficiente para suprimir los modos de orden superior, a menudo debido a un calentamiento localizado. Un módulo de diodo láser de alta potencia y alta calidad debe permanecer libre de curvaturas hasta al menos 120% de su corriente nominal de funcionamiento.
P: ¿Por qué se suele utilizar 976nm para el bombeo en lugar de 808nm?
R: 976 nm es el pico de absorción de los láseres de fibra dopados con iterbio (Yb). Aunque 976 nm exige un control mucho más estricto de la longitud de onda (que a menudo requiere un VBG), ofrece un “defecto cuántico” menor, lo que significa que se pierde menos energía en forma de calor durante el proceso de conversión en comparación con el bombeo a 808 nm.
P: ¿Cómo calculo la temperatura de unión de mis láseres de diodo de alta potencia?
R: Puede utilizar la fórmula $T_j = T_{case} + (P_{elec} - P_{opt}) \cdot R_{th}$. Aquí, $R_{th}$ es la resistencia térmica proporcionada por el fabricante. Si su $R_{th}$ es $0,5 K/W$ y está disipando $100W$ de calor, su unión estará $50°C$ más caliente que la carcasa.
P: ¿Qué es el “entremezclado de facetas” en el contexto de la fabricación de semiconductores de alta potencia?
R: Es un proceso utilizado para crear un “láser de ventana”. Al cambiar localmente la composición del cristal en la faceta a un material de mayor brecha de banda, la faceta se vuelve transparente a la luz generada. Esto aumenta significativamente el umbral de DQO.
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